原创 曙光已现，国产浸润式DUV光刻机，快要来了？

而从现在的情况来看，浸润式DUV离我们应该不远了。

浸润式DUV实际上与干式DUV差别不大，只是在晶圆上加了一层水，让光线进入水之后折射，那么193nm的波长，等效于134nm，这样波长短了，分辨率就提高了。

所以光源、透镜、工作台之类的几乎都是一样的，就是在工作台上面，加了一层浸润式系统，也就是一层水，多了这么一个核心环节。

而早在几年前，国内就传出，已经在研发浸润式系统，并且有了一定突破，而如今几年时间过去了，我觉得应该是有突破的。

去年国内曝光了一台国产氟化氩光刻机，这台光刻机采用193nm波长，分辨率≤65nm，套刻精度≤8nm，已经是干式DUV的最高水平了。

所以，合理推测，接下来浸润式DUV，离我们真的近了，一旦有了浸润式DUV，那么我们用自己的光刻机，也能够制造5nm芯片，那还担心什么？

另外在EUV这个档次，国内在研发EBL电子束技术，也在研发纳米压印技术，并且都有了进展，未来绕过EUV，也是有可能的，所以国产光刻机，真的到了爆发的前夜了，不信大家拭目以待吧。